特許

J-GLOBAL ID：200903089805798412

露光装置および露光方法

発明者： 窪田 通孝
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-208595
公開番号（公開出願番号）：特開平9-055352
出願日： 1995年08月16日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ面内におけるレジストパターンの寸法ばらつきを低減する。【解決手段】 露光装置1を、ウエハ11上に塗布されたレジスト膜12を露光する露光手段6と、ウエハ11を複数の領域に分割し、分割した領域毎にそのレジスト膜12の厚さを測定する膜厚測定手段2と、この膜厚測定手段2による測定結果に基づき、レジスト膜12への露光量を予め設定されたウエハ11の所定領域毎に決定する露光量決定手段4と、露光量決定手段4によって決定された露光量に基づき、露光手段6の露光量をウエハ11の所定領域毎に制御する制御手段5とから構成する。

請求項（抜粋）：

ウエハ上に塗布されたレジスト膜を露光する露光手段を備えた露光装置において、前記ウエハを複数の領域に分割し、分割した領域毎にそのレジスト膜の厚さを測定する膜厚測定手段と、該膜厚測定手段による測定結果に基づき、前記レジスト膜への露光量を予め設定されたウエハの所定領域毎に決定する露光量決定手段と、前記露光量決定手段によって決定された露光量に基づき、前記露光手段の露光量を前記ウエハの所定領域毎に制御する制御手段とを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 G