特許
J-GLOBAL ID：200903089806660821
電子ビームによる検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 史旺 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-075176
公開番号（公開出願番号）：特開平11-273612
出願日： 1998年03月24日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、電子ビームを照射して試料画像を取得する検査装置に関し、常に正立した試料画像を取得することができる検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】 電子ビームを試料面上に照射する照射手段24と、試料面から発生する二次電子または反射電子の少なくとも一方からなる二次ビームを検出し、試料画像を生成する電子検出手段35と、試料と電子検出手段との間に配置され、二次ビームを電子検出手段の検出面に結像させ、試料面の像を該検出面に投影する投影電子光学系28、31、33、34と、投影電子光学系の集束作用を制御し、二次ビームの結像回数を変更する倍率制御手段44、42と、二次ビームの結像回数に応じて生成される倒立した試料画像を、正立像に変換する画像変換手段40とを備えて構成する。
請求項（抜粋）：
電子ビームを試料面上に照射する照射手段と、前記試料面から発生する二次電子または反射電子の少なくとも一方からなる二次ビームを検出し、試料画像を生成する電子検出手段と、前記試料と前記電子検出手段との間に配置され、前記二次ビームを前記電子検出手段の検出面に結像させ、前記試料面の像を該検出面に投影する投影電子光学系と、前記投影電子光学系の集束作用を制御し、前記二次ビームの結像回数を変更するレンズ制御手段と、前記二次ビームの結像回数に応じて生成される倒立した試料画像を、正立像に変換する画像変換手段とを備えたことを特徴とする電子ビームによる検査装置。
IPC (2件)：
H01J 37/29
, H01J 37/22 501
H01J 37/29
, H01J 37/22 501 A
