特許

J-GLOBAL ID：200903089809279983

少なくとも1つの両親媒性直鎖状ブロックポリマーを含む2区画装置

発明者： クロード・デュビエ ,  フランク・ジロー ,  イザベル・ロラ-コルボル
出願人/特許権者： ロレアル
代理人 (8件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-153341
公開番号（公開出願番号）：特開2004-026823
出願日： 2003年05月29日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】揮発性有機化合物を含まない一方で、優れたヘアスタイル成形及び保持特性を維持するエアロゾルスプレーを提供する。【解決手段】第1の区画には少なくとも1つの親水性ブロックと少なくとも1つの疎水性ブロックとを含む少なくとも1つの直鎖状ブロックコポリマーを含むスタイリング組成物を収容し、前記親水性ブロックは前記直鎖状ブロックコポリマーの重量の少なくとも30重量%を占め、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、ウレタンユニットを含むブロックコポリマー、及びシロキサンユニットを含むブロックコポリマーを含まず、第2の区画には圧縮ガスを収容する、2区画エアロゾル装置を提供する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

・第1の区画には、少なくとも1つの親水性ブロックと少なくとも1つの疎水性ブロックとを含む少なくとも1つの直鎖状ブロックコポリマーを含むスタイリング組成物を収容し、前記親水性ブロックは前記直鎖状ブロックコポリマーの重量の少なくとも30重量%を占め、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、ウレタンユニットを含むブロックコポリマー、及びシロキサンユニットを含むブロックコポリマーは含まれず、 ・第2の区画には、圧縮ガスを収容する、 2区画エアロゾル装置。

IPC (7件)：

A61K7/11 ,  A45D34/04 ,  A45D44/00 ,  A61K7/00 ,  B65D83/34 ,  B65D83/36 ,  C08F293/00

FI (6件)：

A61K7/11 ,  A45D34/04 550 ,  A45D44/00 A ,  A61K7/00 S ,  C08F293/00 ,  B65D83/14 Z

Fターム (54件)：

3E014PA01 ,  3E014PB01 ,  3E014PC08 ,  3E014PD01 ,  4C083AB061 ,  4C083AB081 ,  4C083AB131 ,  4C083AD011 ,  4C083AD071 ,  4C083AD091 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083AD151 ,  4C083AD611 ,  4C083BB04 ,  4C083BB05 ,  4C083BB06 ,  4C083BB07 ,  4C083BB21 ,  4C083BB32 ,  4C083BB33 ,  4C083BB34 ,  4C083BB35 ,  4C083BB41 ,  4C083BB42 ,  4C083BB43 ,  4C083BB46 ,  4C083BB48 ,  4C083BB49 ,  4C083BB53 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083DD47 ,  4J026HA11 ,  4J026HA19 ,  4J026HA24 ,  4J026HA26 ,  4J026HA29 ,  4J026HA38 ,  4J026HA39 ,  4J026HB05 ,  4J026HB06 ,  4J026HB10 ,  4J026HB11 ,  4J026HB13 ,  4J026HB18 ,  4J026HB24 ,  4J026HB26 ,  4J026HB29 ,  4J026HB38 ,  4J026HB39 ,  4J026HB50 ,  4J026HE01 ,  4J026HE02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 新規高分子およびこれを用いた化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-105252   出願人：株式会社資生堂
• ヘアスタイリングオイル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-152326   出願人：ウエラアクチェンゲゼルシャフト
• ケラチン質基質処理用分岐状/ブロックコポリマー
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-592336   出願人：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー