特許

J-GLOBAL ID：200903089824223510

ペ-スト塗布機

発明者： 石田 茂 ,  米田 福男 ,  三階 春夫
出願人/特許権者： 日立テクノエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-197316
公開番号（公開出願番号）：特開平5-015818
出願日： 1991年07月12日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：

【要約】【目的】 ノズル1から吐出されるペ-ストで基板7上に形成されるパターンの曲線部分が所望の曲線形状で、直線部分とほぼ同じ断面形状となるようにする。【構成】 制御装置11の制御の基にZ軸テーブル部4が駆動され、ノズル1の先端が描かれるペーストパターンの厚みだけ基板7よりも上方に位置固定される。次いで、制御装置11の制御の基にX軸テーブル部5とY軸テーブル部6とが駆動され、基板7がX、Y平面上を移動する。そして、ノズル1から単位時間当たり一定の吐出量でペ-スト12が基板7上に吐出され、この基板7上にペーストのパターンが描かれる。このとき、基板7の移動方向に拘らず、ノズル1の先端と基板7との相対的移動量が一定に保持される。従って、曲線部分も直線部分と同様な状態でペーストが塗布され、曲線部分が所望の曲線形状で、かつ直線部とほぼ同等の断面形状のパターンとなる。

請求項（抜粋）：

基板が載置されたテ-ブルとノズルを相対的に移動させ、該ノズルからペ-ストを吐出させて該基板上に所定のパタ-ンでペ-ストを塗布するペ-スト塗布機において、該基板と該ノズルの先端との間隙が該基板上に塗布されるペ-ストの厚さにほぼ等しいように該ノズルが設置されており、単位時間当りの該ノズルのペ-スト吐出量を一定に保つ第1の手段と、ペ-ストを直線状に塗布する部分と曲線状に塗布する部分とでほぼ一致するように、該ノズルと該基板との単位時間当りの相対的移動量を設定する第2の手段とを設けたことを特徴とするペ-スト塗布機。

IPC (2件)：

B05B 13/02 ,  G02F 1/1339 505

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-000358
  
• 特開昭55-003841