特許
J-GLOBAL ID:200903089830645914

絶縁膜、電子源および画像形成装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 敬介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-187979
公開番号(公開出願番号):特開2000-021241
出願日: 1998年07月03日
公開日(公表日): 2000年01月21日
要約:
【要約】【課題】 緻密で、絶縁特性の良好な絶縁膜のパターンを容易に形成できるようにする。【解決手段】 ゾルゲル液13をマイクロカプセル15に内包させてビヒクル14に分散させた絶縁材料溶液を、印刷プロセスにより塗布した後、該ビヒクル14の沸点以上の温度で焼成することを特徴とする。
請求項(抜粋):
ゾルゲル液と増粘剤を含有する絶縁材料溶液を、印刷プロセスにより塗布する工程と、焼成工程を有することを特徴とする絶縁膜の製造方法。
IPC (4件):
H01B 3/30 ,  C03C 17/34 ,  H01J 9/02 ,  H01L 21/316
FI (4件):
H01B 3/30 M ,  C03C 17/34 A ,  H01J 9/02 E ,  H01L 21/316 G
Fターム (29件):
4G059AA01 ,  4G059AB07 ,  4G059AC20 ,  4G059DA06 ,  4G059DA08 ,  4G059DB02 ,  4G059GA01 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA05 ,  4G059GA06 ,  4G059GA07 ,  4G059GA14 ,  5F058BB06 ,  5F058BB07 ,  5F058BF46 ,  5F058BF47 ,  5F058BF80 ,  5F058BH01 ,  5F058BJ01 ,  5G305AA06 ,  5G305AA11 ,  5G305AB36 ,  5G305BA09 ,  5G305CA60 ,  5G305CB26 ,  5G305CB27 ,  5G305CD20 ,  5G305DA22

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