特許
J-GLOBAL ID：200903089836493873
露光方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-236031
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291009
出願日： 1993年09月22日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】従来の露光波長及び光学系をほとんど変えずに、投影光学系の解像限界を超える高解像のパターンを形成する。【構成】被投影原版のパターンを投影光学系によって所定の感光素材上に投影する投影露光方法において、前記感光素材として潜像反応濃度が入射光強度に対して非線型な感度特性を持つものを用い、感光素材上での光強度分布が異なる複数の露光を行う。具体的には、被投影原版として複数のパターンを用い、例えば第1パターンを有する第1被投影原版と第2パターンを有する第2被投影原版とを用い、感光素材に対して第1被投影原版による第1露光後に第2被投影原版による第2露光を行うことにより、感光素材上に第1パターン及び第2パターンよりも微細なパターンの潜像濃度分布を形成する。
請求項（抜粋）：
被投影原版のパターンを投影光学系によって所定の感光素材上に投影する投影露光方法において、前記感光素材として潜像反応濃度が入射光強度に対して非線型な感度特性を持つものを用い、感光素材上での光強度分布が異なる複数回の露光を行うことにより、投影光学系の解像限界を超える高解像のパターンの形成を可能とすることを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
