特許

J-GLOBAL ID：200903089844368670

全反射X線分析装置

発明者： 尾形 潔 ,  中野 朝雄 ,  河野 真貴子
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-009789
公開番号（公開出願番号）：特開平5-196583
出願日： 1992年01月23日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】全反射X線分析装置においてX線入射位置及び入射角を再現性良く設定し、多層薄膜界面・表面のX線散乱、X線回折、EXAFS、蛍光X線等を高精度に測定可能とする。【構成】モノクロメータ14により単色化し、X線集光鏡15により収束させ、次いでX線反射鏡16により高調波を除去したX線1を試料4に全反射臨界角以下の微小入射角で入射させる。試料台4は上下移動機構及び回転機構を持つ。散乱X線強度検出器11をモニターしながら試料位置を最適な全反射条件に設定し、反射X線及び蛍光X線等を測定する。

請求項（抜粋）：

入射X線検出器と反射X線検出器により、試料台上に置いた試料表面に入射するX線の反射率を測定する全反射X線分析装置において、上記試料より散乱するX線強度を測定する散乱X線検出器と、入射X線ビームの試料への入射角を任意の角度で設定する機構と、X線ビームと試料表面の距離を変えることによりX線ビームの試料への入射位置を移動するための試料移動機構とを備えたことを特徴とする全反射X線分析装置。