特許
J-GLOBAL ID:200903089851456607

排ガス処理方法および排ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-158674
公開番号(公開出願番号):特開2007-326026
出願日: 2006年06月07日
公開日(公表日): 2007年12月20日
要約:
【課題】吸収塔内における入口ダクトの開口部がスケールで塞がれるのを防ぐ。【解決手段】吸収塔11の下部側面に連結された入口ダクト12と、吸収塔11内において入口ダクト12の開口部よりも上方に設けられ、下方に向けて吸収液を噴射する吸収液噴射スプレー14、15とが備えられ、入口ダクト12から吸収塔11内に導入された排ガスが、吸収液噴射スプレー14、15により吸収液が吹き付けられながら、この吸収塔11内を循環することにより、排ガス中に含まれる亜硫酸(SO2)ガスを、吸収液と反応させて吸収除去する排ガス処理装置10であって、吸収塔11と入口ダクト12との連結部分の内面に向けて流体を間欠的に噴射する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
吸収塔の下部側面に連結された入口ダクトと、吸収塔内において前記入口ダクトの開口部よりも上方に設けられ、下方に向けて吸収液を噴射する吸収液噴射スプレーとが備えられ、前記入口ダクトから吸収塔内に導入された排ガスが、吸収液噴射スプレーにより吸収液が吹き付けられながら、この吸収塔内を循環することにより、排ガス中に含まれる亜硫酸(SO2)ガスを、吸収液と反応させて吸収除去する排ガス処理方法であって、 吸収塔と入口ダクトとの連結部分の内面に向けて流体を間欠的に噴射することを特徴とする排ガス処理方法。
IPC (4件):
B01D 53/50 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/14 ,  B01D 53/18
FI (4件):
B01D53/34 125A ,  B01D53/34 125Q ,  B01D53/14 C ,  B01D53/18 E
Fターム (18件):
4D002AA02 ,  4D002BA02 ,  4D002BA16 ,  4D002CA01 ,  4D002DA02 ,  4D002DA06 ,  4D002DA12 ,  4D002GA01 ,  4D002GB06 ,  4D002HA05 ,  4D020AA06 ,  4D020BA01 ,  4D020BB03 ,  4D020CB27 ,  4D020CC18 ,  4D020CD01 ,  4D020DA03 ,  4D020DB05
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 湿式排煙脱硫装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-200840   出願人:バブコック日立株式会社
審査官引用 (6件)
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