特許
J-GLOBAL ID：200903089856847000

干渉装置及びそれを搭載した半導体露光装置

発明者：
大内 千種

大内 千種 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-199435
公開番号（公開出願番号）：特開2002-013908
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：
【要約】【課題】 可干渉距離が干渉計の光路長差より短い光源からの光を用いても透過罷免を測定することが出きる干渉装置及びそれを搭載した半導体露光装置を得ること。【解決手段】 光源から放射された光束を、フィゾー干渉計に入射する前に2光束に分離・再結合するためのビームスプリッタと、2光束が分離している間の光路長差が該光源からの光束の可干渉距離以上で且つ該光路長差とフィゾー干渉計の光路長との差が光源の可干渉距離以内になるように配置されたミラーとを含む光路長差付与部に導光し、該光路長差付与部からの光束を空間フィルターを介して該フィゾー干渉計に導光したことを特徴とするフィゾー干渉装置。
請求項（抜粋）：
光源から放射された光束を、フィゾー干渉計に入射する前に2光束に分離・再結合するためのビームスプリッタと、2光束が分離している間の光路長差が該光源からの光束の可干渉距離以上で且つ該光路長差とフィゾー干渉計の光路長との差が光源の可干渉距離以内になるように配置されたミラーとを含む光路長差付与部に導光し、該光路長差付与部からの光束を空間フィルターを介して該フィゾー干渉計に導光したことを特徴とするフィゾー干渉装置。
IPC (6件)：
G01B 9/02 ,  G01M 11/02 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  G01B 11/24
FI (6件)：
G01B 9/02 ,  G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  G01B 11/24 D
Fターム (34件)：
2F064BB04 ,  2F064EE05 ,  2F064FF01 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG41 ,  2F064GG44 ,  2F064GG47 ,  2F064GG52 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F065AA00 ,  2F065AA53 ,  2F065BB22 ,  2F065CC22 ,  2F065EE08 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065PP23 ,  2F065SS13 ,  2G086HH06 ,  2H097AA03 ,  2H097LA10 ,  5F046CA04 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05 ,  5F046FB14
引用特許：
審査官引用 (3件)

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