スパッタリングターゲットおよび透明導電膜とその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：泉名謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-267499
公開番号（公開出願番号）：特開平10-110263
出願日： 1996年10月08日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：

【要約】【課題】低抵抗の酸化錫系非晶質透明導電膜を形成できるスパッタリングターゲットおよび耐擦傷性に優れた非晶質透明導電膜とその製造方法の提供。【解決手段】金属Snとフッ素含有化合物とからなるスパッタリングターゲットと該ターゲットを用いた透明導電膜、および錫とフッ素と酸素とを含む非晶質透明導電膜。

請求項（抜粋）：

金属Snとフッ素含有化合物とを含むスパッタリングターゲット。

前のページに戻る