特許
J-GLOBAL ID：200903089872521956
基板表面清浄方法および清浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-201372
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021410
出願日： 1991年07月16日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】電子部品や光学部品の表面の有機物質を除去するための方法および装置を提供する。特に基板上に被膜を被覆する際に前処理として行うのに適した基板の清浄方法および清浄装置に関する。【構成】光電子放出部材3に前記光電子放出部材の光電しきい値よりも大きなエネルギーを有する紫外線を含む電磁波を照射し、前記照射により放出された光電子により、基板2の表面および基板表面近傍の空間に浮遊する微粒子を帯電させ、前記微粒子を前記微粒子の帯電電荷とは反対の電位を印加した電極7に捕集することにより基板表面を清浄にする。
請求項（抜粋）：
光電子放出部材に前記光電子放出部材の光電しきい値より大きなエネルギーを有する紫外線を含む電磁波を照射し、前記照射により放出された光電子により、基板の表面上の微粒子および基板表面近傍の空間に浮遊する微粒子を帯電させ、前記帯電させた微粒子を、前記微粒子の帯電電荷とは反対の電位にした電極に捕集することにより基板表面を清浄にする方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
