特許

J-GLOBAL ID：200903089880892211

ナノワイヤおよびその製造方法ならびに機能素子およびその製造方法

発明者： 綱島 亮 ,  芥川 智行 ,  中村 貴義 ,  戸澗 一孔 ,  川上 宏子
出願人/特許権者： 国立大学法人 北海道大学 ,  財団法人野口研究所
代理人 (1件)： 森 幸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-342581
公開番号（公開出願番号）：特開2006-150480
出願日： 2004年11月26日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：

【課題】 基板上に直線性や線幅の均一性が高いナノワイヤを高い自由度で製造することができるナノワイヤの製造方法を提供する。 【解決手段】 自己組織化により繊維状構造を形成する化合物を用いてナノスケールの繊維状構造を形成し、この繊維状構造との選択的な相互作用によって金属または半導体からなるナノ粒子を配列させてナノワイヤを製造する。そのような化合物として、3,4,5-トリス(アルキルオキシ)ベンズアミド誘導体、3,5-ビス(アルキルオキシ)ベンズアミド誘導体等を用いる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

自己組織化により繊維状構造を形成する化合物を用いることを特徴とするナノワイヤの製造方法。

IPC (2件)：

B82B 3/00 ,  H01L 29/06

FI (2件)：

B82B3/00 ,  H01L29/06 601N

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 核酸金属化方法、金属化核酸、ナノワイヤ作製方法及びナノワイヤ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-200370   出願人：ソニーインターナショナル(ヨーロッパ)ゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• ポリマー/界面活性剤複合ナノワイヤーとその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-265083   出願人：科学技術振興事業団
• ナノワイヤ及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-267379   出願人：三菱化学株式会社, 理化学研究所
• 金属ナノワイヤ製造法及び金属ナノワイヤ製造用前駆体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-017858   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所