特許
J-GLOBAL ID：200903089884680189
光磁気デイスク
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-105892
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128611
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】 記録膜への水分の侵入を防ぎ、高温高湿下でも良好な耐蝕性を有する光磁気ディスクを提供する。さらには、ヘッドに対する動摩擦係数を低減し、摺動記録方式用として好適な光磁気ディスクを提供する。【構成】 希土類-遷移金属等からなる記録磁性膜上に紫外線効果樹脂形成し、さらにその上に非加水分解性の撥水性物質の被膜を形成する。非加水分解性の撥水性物質の被膜としては、ポリシロキサン系やパーフルオロポリエーテル系の撥水剤の塗膜や、テトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂のスパッタ膜、プラズマ重合膜である。また、非加水分解性の撥水性物質の被膜の膜厚は、2〜200nmとする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に記録磁性膜が形成され、該記録磁性膜が紫外線硬化樹脂からなる保護膜で被覆されてなり、少なくとも前記保護膜の表面に非加水分解性の撥水性物質の被膜が形成されていることを特徴とする光磁気ディスク。
IPC (2件)：
G11B 11/10
, C09D 5/00 PPG
