特許

J-GLOBAL ID：200903089884767128

物理蒸着ターゲット及び金属材料の製造方法

発明者： セガル,ヴラディミール ,  ファーラッセ,ステファン ,  アルフォード,フランク
出願人/特許権者： ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  桜井 周矩
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-539586
公開番号（公開出願番号）：特表2004-513228
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

本発明は、面心立方単位胞金属または合金で構成され、並びに均一な結晶粒度30ミクロン未満、好ましくは1ミクロン未満;及び均一な軸または平面<220>集合組織を有する物理蒸着ターゲットを含む。また、スパッタリングターゲットの製造方法を説明する。本方法は、ビレットの製造;処方された経路及びパス数を用いた等チャンネル角度押出し;並びに等チャンネル角度押出しに続くクロスローリングまたは鍛造を含み得る。

請求項（抜粋）：

面心立方単位胞を有する材料を含み、スパッタリング表面を有し、並びに、 前記スパッタリング表面全体にわたる優先する<220>結晶学的集合組織;及び、 前記スパッタリング表面全体にわたる平均結晶粒度約30ミクロン以下; を含む、物理蒸着ターゲット。

IPC (5件)：

C23C14/34 ,  C22C21/12 ,  C22F1/04 ,  C22F1/08 ,  H01L21/285

FI (5件)：

C23C14/34 A ,  C22C21/12 ,  C22F1/04 A ,  C22F1/08 A ,  H01L21/285 S

Fターム (14件)：

4K029BD01 ,  4K029DC02 ,  4K029DC07 ,  4M104BB02 ,  4M104BB03 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB06 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104DD40 ,  4M104HH13