特許
J-GLOBAL ID：200903089886792057
マルチ荷電子ビーム露光装置のアライメント装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-273218
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090145
出願日： 1991年09月25日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【目的】 マルチ荷電子ビーム露光装置において、アラメントマーク位置を高精度に検出し、より正確なアライメントを可能とする。【構成】 荷電子ビーム101が主偏向器4、ビーム制限アパーチャ5、補正用偏向器6及びスクリーンレンズ7を介して試料8に照射される。ビーム制限アパーチャ5の上方にほぼ一様な静磁界を形成すべく永久磁石33が設けられ、主偏向器4と永久磁石33との間に2次電子検出器32が設けられている。【作用】 荷電子ビーム101の照射により試料8から放出される2次電子が、永久磁石33の磁界により偏向され、2次電子検出器32に入射する。
請求項（抜粋）：
荷電子ビームを偏向器及びスクリーンレンズを介して被露光物に照射し、複数のチップを同時に描画するマルチ荷電子ビーム露光装置のアライメント装置において、前記偏向器とスクリーンレンズとの間に設けられ、荷電子ビームを被露光物に照射したとき発生する2次電子を偏向するための磁界を発生する磁界発生手段と、該磁界発生手段により偏向された前記2次電子を検出する2次電子検出手段と、該2次電子検出手段の出力に基づいて、前記被露光物上に形成されたアライメントマークの位置を検出するアライメントマーク位置検出手段とを設けたことを特徴とするマルチ荷電子ビーム露光装置のアライメント装置。
FI (3件)：
H01L 21/30 341 W
, H01L 21/30 341 K
, H01L 21/30 341 B
