特許

J-GLOBAL ID：200903089889544577

反射マスクおよびX線投影露光装置

発明者： 押野 哲也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-245524
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077306
出願日： 1998年08月31日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】 高精度なアライメントができる反射マスク、及びこれらを用いたX線投影露光装置を提供する。【解決手段】 基板1は平板で、その表面に、露光する波長のX線を高い反射率で反射する多層膜2が形成されている。多層膜2の表面には、吸収体3がパターン状に形成されている。ここにX線が入射すると、パターン状に形成された吸収体3以外に入射したものが反射する。マスクの周辺部等の吸収体パターンが形成される領域以外には、その一部にアライメントマークが形成されている。アライメントマークはアライメント光の透過部1aと遮光部4からなる。マスクの基板1はアライメント光が透過する部材で形成され、その表面の露出した部分が透過部1aとなっている。遮光部4は、基板1表面に、アライメント光を透過しにくい部材で、パターン状に形成されている。

請求項（抜粋）：

照明光(X線を含む)によって基板表面を照射し、その反射光を光学系を介して物面上に結像させることにより、基板表面に形成されたパターンを物面に転写するのに用いられる反射マスクであって、アライメントマークを有し、当該アライメントマークはアライメント光を透過しにくい部材で構成され、前記基板はアライメント光を透過する部材で構成されていることを特徴とする反射マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (9件)：

2H095BA01 ,  2H095BA10 ,  2H095BC11 ,  2H095BC27 ,  2H095BC28 ,  2H095BE03 ,  5F046GA18 ,  5F046GD02 ,  5F046GD09