レジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野口恭弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-281168
公開番号（公開出願番号）：特開2002-090997
出願日： 2000年09月18日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるレジスト用組成物を提供する。【解決手段】式1で表される化合物またはその誘導体からなるジエン系モノマー(a)のモノマー単位と含フッ素ビニルモノマー(b)のモノマー単位とが環化反応した環状構造の繰り返し単位を含み、かつ含フッ素ビニルモノマー(b)に由来するブロック化された酸性基を有する含フッ素ポリマー(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)および有機溶媒(C)を含むことを特徴とするレジスト組成物。CH2=CH-X-CH=CH2 式1式中、Xはメチレン基または酸素原子を表す。

請求項（抜粋）：

式1)で表される化合物またはその誘導体からなるジエン系モノマー(a)のモノマー単位と含フッ素ビニルモノマー(b)のモノマー単位とが環化反応した環状構造の繰り返し単位を含み、かつ含フッ素ビニルモノマー(b)に由来するブロック化された酸性基を有する含フッ素ポリマー(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)および有機溶媒(C)を含むことを特徴とするレジスト組成物。CH2=CH-X-CH=CH2 式1)式中、Xはメチレン基または酸素原子を表す。

IPC (8件)：

G03F 7/038 601 , C08F216/12 , C08F216/14 , C08F236/04 , C08K 5/00 , C08L 29/10 , C08L 47/00 , H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/038 601 , C08F216/12 , C08F216/14 , C08F236/04 , C08K 5/00 , C08L 29/10 , C08L 47/00 , H01L 21/30 502 R

Fターム (41件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA10 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB12 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 4J002BE041 , 4J002BL001 , 4J002EB106 , 4J002EQ016 , 4J002EU186 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002GP03 , 4J100AE38Q , 4J100AE64P , 4J100AS01P , 4J100AS06P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA07Q , 4J100BA16Q , 4J100BA56Q , 4J100BB12Q , 4J100BB18Q , 4J100BC43Q , 4J100CA04 , 4J100HA40 , 4J100HC04 , 4J100JA38

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