特許
J-GLOBAL ID：200903089894979778
耐レーザ用光学部材及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-103793
公開番号（公開出願番号）：特開平7-300325
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、レーザを利用した各種装置に組込まれる耐レーザ用光学部材において長期に亙ってレーザを照射した場合においても、所定レベル以上の光透過率を保証し得る光学部材とその製造方法を提供する事にある。【構成】 合成シリカガラスからなる耐レーザ用光学部材において、H2ガス分子含有させたシリカガラスにγ線を照射し、該γ線の照射線量を、γ線照射後におけるシリカガラスの光透過率が85%以上(サンプル厚さ1cm、波長214nm)になるように設定すると共に、該照射後のH2分子含有量を5×1016molecules/cm3以上に維持した事を特徴とする。
請求項（抜粋）：
シリカガラスから成る耐レーザ用光学部材において、水素分子を含有させたシリカガラスにコバルト60によりγ線を照射し、該γ線の照射線量を、γ線照射前のシリカガラスの光透過率の値85%以上(サンプル厚さ1cm、波長214nmの見かけの透過率)を照射後も維持する範囲で設定すると共に、該γ線照射後の水素分子濃度が5×1016molecules/cm3以上である事を特徴とする耐レーザ用光学部材
IPC (4件)：
C03B 20/00
, C03C 3/06
, C03C 23/00
, H01S 3/17
