特許

J-GLOBAL ID：200903089895025735

真空容器

発明者： 角谷 さかえ ,  佐藤 幸恵 ,  塚原 園子
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-103552
公開番号（公開出願番号）：特開平11-286771
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：

【要約】【課題】真空容器を真空排気する際に容器の圧力降下速度が大きくなる技術を提供する。【解決手段】本発明では、シリコンやゲルマニウム等のように水分が付着しにくい被膜12で容器本体11の内壁を被覆しているので、容器本体11内の水分が内壁に付着しにくく、真空排気の際に排出されやすくなるので、真空排気に要する時間を従来に比して短縮することが可能になる。

請求項（抜粋）：

真空排気可能な真空容器であって、容器本体と、シリコン、ゲルマニウム、シリコン酸化物又はゲルマニウム酸化物のうちいずれか一種類又は複数種類からなる被膜とを有し、前記被膜は、前記容器本体内部の真空雰囲気に接する面に配置されたことを特徴とする真空容器。

IPC (4件)：

C23C 14/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  C21D 1/773

FI (4件)：

C23C 14/00 C ,  H01L 21/203 S ,  C21D 1/773 A ,  H01L 21/302 B

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平3-261697
  
• 特開昭61-034931
  
• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-212360   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-243767
  

審査官引用 (2件)

• 特開平3-261697
  
• 特開昭61-034931