洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-069800
公開番号（公開出願番号）：特開平6-277638
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：

【要約】【目的】 LCD製造過程などにおける、洗浄処理の効果を高め、特性の優れたLCDを製造することを可能にする洗浄装置を提供する。【構成】洗浄モードにおいては、超純水製造装置4からの超純水は、フィルタ6および切換部8を通り、配管28を介してシャワーノズル10からLCD基板12に対してシャワーリングされる。一方、洗浄停止モードにおいては、切換部8は配管22の方向に切り換えられ、超純水製造装置4からの超純水は、配管20、フィルタ6、配管24、切換部8、配管22を、その流れを停止させることなく巡回する。そのため、洗浄装置2の洗浄停止モードにおいて、バクテリアが超純水中に発生することを有効に防止し、高純度の超純水を用いて洗浄を行うことができる。

請求項（抜粋）：

純水をろ過するフィルタ手段と、洗浄モードにおいて、該フィルタ手段と対象物に純水をシャワーリングする流出口との間に純水流出経路を確立し、洗浄停止モードにおいて前記フィルタ手段を含む純水巡回経路を確立する切換手段とを有することを特徴とする洗浄装置。

IPC (7件)：

B08B 3/14 , B01D 35/16 , B08B 3/10 , C02F 1/44 , G02F 1/13 101 , G03F 7/16 , H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭57-080255
特開昭59-032353
特開平3-056182

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