特許

J-GLOBAL ID：200903089899926770

荷電ビ-ム装置用光学系

発明者： 山田 篤志 ,  マンロー,エリック ,  チュー,シーカン
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-031757
公開番号（公開出願番号）：特開平11-312641
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】 ぼけの小さな荷電ビーム装置用光学系の提供。【解決手段】 倍率が1/Mであって対称磁気ダブレット条件を満たすレンズ場を形成する投影レンズ3,4と、光軸外の3次收差が光軸上の3次收差とほぼ同一となるような偏向場を形成する6個の偏向器Da1〜Da3,Db1〜Db3とを備え、偏向器Da1〜Da3をレチクル側に、偏向器Db1〜Db3を感応基板側にそれぞれ配設し、かつ、偏向器Da1〜Da3に対する偏向器Da1〜Da3のスケールファクターをほぼMとした。

請求項（抜粋）：

レチクルのパターンの像を感応基板上に投影する荷電ビーム装置用光学系において、倍率が1/Mであって対称磁気ダブレット条件を満たすレンズ場を形成するレンズ系と、レチクル側に配設されたn個(n≧2)の偏向器と感応基板側に配設されたn個の偏向器から成り、光軸外の3次收差が光軸上の3次收差とほぼ同一となるような偏向場を形成する偏向手段とを備え、前記感応基板側の各偏向器に対する前記レチクル側の対応する偏向器のスケールファクターをほぼMとしたことを特徴とする荷電ビーム装置用光学系。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B