特許

J-GLOBAL ID：200903089906041371

イオンビーム発生装置

発明者： 加勢 正隆
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-042713
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254386
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】 本発明はイオン注入装置に関し、出射するイオンビーム量の可変調整を簡単に行いうる構造を実現することを目的とする。【構成】 イオンビーム発生装置11は、アーム室装置本体51と、この内部に回動可能に設けられたライナ52と、ライナ52の回動位置を切り換えるモータ80、アーム駆動機構81、フォークアーム83を有する。アーク室装置本体51は、イオンビーム引き出し開口55を有する。ライナ52は、遮蔽部67,68を有する。ライナ52が所定位置に回動すると、遮蔽部67,68が、開口55の一部を塞いで、開口55より出射するイオンビーム量を減らすよう構成する。

請求項（抜粋）：

プラズマを発生させるアーク室(16)と、イオンビーム引き出し開口(18)と、移動可能に設けてあり、移動して上記のイオンビーム引き出し開口の一部を塞ぐ部分的遮蔽部材(52)と、上記部分的遮蔽部材を、該イオンビーム引き出し開口を遮蔽しない位置と、該イオンビーム引き出し開口の一部を遮蔽する位置との間で移動させる手段(60,83,82,80,81)とを有する構成としたことを特徴とするイオンビーム発生装置。

IPC (5件)：

H01J 37/09 ,  H01J 27/08 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265