位相シフトマスクのパターン欠陥修正方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-081966
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118627
出願日： 1993年04月08日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【目的】本発明は、位相シフトマスクがパターン欠陥を有する場合において、そのパターン欠陥を完全かつ容易に修正することを目的とする。【構成】本発明は上記目的を達成するため、シフタ凸欠陥4を取囲むように覆う平坦化膜7を形成した後、その平坦化膜7をエッチバックしてその平坦化膜7とともにシフタ凸欠陥4を除去する。

請求項（抜粋）：

基板と位相シフタと遮光膜とを含み、凸型欠陥を有する位相シフトマスクのパターン欠陥修正方法であって、前記凸型欠陥を取囲むように覆う修正膜を形成する工程と、前記修正膜をエッチバックすることにより、前記修正膜とともに前記凸型欠陥を除去する工程とを備えた、位相シフトマスクのパターン欠陥修正方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-128758
特開平4-128758
特開平4-131853

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