特許

J-GLOBAL ID：200903089913723712

抗菌材料

発明者： 玉木 聡史 ,  大杉 高志
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-000977
公開番号（公開出願番号）：特開平11-192290
出願日： 1998年01月06日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 抗菌性能の耐久性に優れ、光照射の無い場所、または照射量の弱い条件下でも、優れた抗菌性を有する抗菌材料を提供する。【解決手段】 多孔性物質(例、多孔質シリカ)により被覆された光半導体(例、アナターゼ型二酸化チタン)からなり、その多孔質部に抗菌作用を有する金属化合物(例、硝酸銀)が担持されていることを特徴とする抗菌材料。および、上記の抗菌作用を有する金属化合物が、銀化合物、亜鉛化合物および銅化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属化合物を含むことを特徴とする上記の抗菌材料。

請求項（抜粋）：

多孔性物質により被覆された光半導体からなり、その多孔質部に抗菌作用を有する金属化合物が担持されていることを特徴とする抗菌材料。

IPC (4件)：

A61L 2/16 ,  A01N 59/16 ,  A01N 59/20 ,  B01J 35/02

FI (4件)：

A61L 2/16 A ,  A01N 59/16 A ,  A01N 59/20 Z ,  B01J 35/02 J