特許
J-GLOBAL ID:200903089928580160

支持体付水素化及び水素処理触媒及びその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-336492
公開番号(公開出願番号):特開平6-031176
出願日: 1991年12月19日
公開日(公表日): 1994年02月08日
要約:
【要約】【構成】 無機酸化物支持体物質上に第VIII族の金属の塩及び/又は錯体及び第VI族の金属のヘテロポリ酸が支持され、第VIII族の金属の濃度が支持体に関して約2ないし20重量%であり、第VI族の金属の濃度が支持体に関して5ないし5重量%であり、実質的に自由水のない触媒を含む優れた水素処理活性を有する触媒組成物。【効果】 本発明の触媒組成物は炭化水素供給原料の水素処理用として極めて有効である。
請求項(抜粋):
無機酸化物支持体物質上に、Co及びNiから選択される第VIII族の金属の塩及び/又は錯体、及び金属がMo及びWから選択される第VI族の金属のヘテロポリ酸を含む触媒組成物において、第VIII族の金属の濃度が支持体に関して約2ないし20重量%、第VI族の金属の濃度が支持体に関して5ないし50重量%であり、実質的に自由水のない触媒組成物。
IPC (4件):
B01J 31/22 ,  B01J 27/188 ,  C10G 45/08 ,  C10G 49/04

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