特許
J-GLOBAL ID：200903089934893979
ポリッシング装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-136088
公開番号（公開出願番号）：特開2000-326217
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：
【要約】【課題】 ポリッシングの終了したポリッシング対象物を円滑に次工程に搬送することができるポリッシング装置を提供する。【解決手段】 研磨面16aを有する研磨テーブル10と、基板Wを保持する基板保持部材34と、前記基板の被研磨面を前記研磨面16aに対して押圧する押圧機構12と、前記基板と前記研磨面を相対的に循環移動させる循環移動機構18,20a,22とを備え、前記循環移動機構には、前記基板の被研磨面が前記研磨面に対して一定のオーバーハング状態となるように前記基板保持部材と前記研磨テーブルの停止位置を制御するオーバーハング制御手段28が設けられている。
請求項（抜粋）：
研磨面を有する研磨テーブルと、基板を保持する基板保持部材と、前記基板の被研磨面を前記研磨面に対して押圧する押圧機構と、前記基板と前記研磨面を相対的に循環移動させる循環移動機構とを備え、前記循環移動機構には、前記基板の被研磨面が前記研磨面に対して一定のオーバーハング状態となるように前記基板保持部材と前記研磨テーブルの停止位置を制御するオーバーハング制御手段が設けられていることを特徴とするポリッシング装置。
Fターム (12件)：
3C058AA06
, 3C058AA11
, 3C058AA16
, 3C058AB06
, 3C058BA07
, 3C058BB02
, 3C058BB08
, 3C058BB09
, 3C058BC02
, 3C058CB03
, 3C058CB04
, 3C058DA17
