特許
J-GLOBAL ID：200903089938111789
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
成田 擴其
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-035148
公開番号（公開出願番号）：特開平5-006752
出願日： 1991年02月05日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：
【要約】[目的] 回転するウエファディスクに遠心力で保持されるウエファに対し、イオンビ-ムを常に一定の入射角度で注入する。[構成] ウエファディスク1の周辺部は円錐面状に形成され、この周辺部内面にウエファ2を載置収容する凹部、ウエファ台1bを設ける。ウエファ台1bのウエファ載置面1cはウエファディスク周辺部の円錐面とほぼ同じ曲面に形成する。ウエファディスク1を回転させると遠心力でウエファ2は載置面1cに押しつけられ、ウエファ面は円錐面とほぼ同じ曲面となり、イオンビ-ム3はウエファ面に常に垂直に入射する。
請求項（抜粋）：
遠心力クランパ方式のウエファディスクを有するイオン注入装置において、前記ウエファディスクの各ウエファ台のウエファ載置面形状を、ウエファディスク内面の円錐面とほぼ同じ曲面としたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, H01L 21/265
, H01L 21/68
