特許
J-GLOBAL ID:200903089942664792

耐プラズマ部材及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松山 允之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-118666
公開番号(公開出願番号):特開2005-225745
出願日: 2004年04月14日
公開日(公表日): 2005年08月25日
要約:
【課題】 半導体製造装置に用いるのに適した、表面に付着・堆積する異種物に対してすぐれたアンカー効果を呈し、その剥離を抑制することのできる耐プラズマ部材及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明は、アルミナ基材上にY2O3またはYAGを溶射した耐プラズマ部材であって、前記アルミナ基板の表面粗さ(Ra)が5μm以上15μm以下である。また、アルミナ基材の表層が20%以上60%以下の気孔率を持つ深さ10μm以上100μm以下の多孔質とすることによって密着力を改善することができる。 このような耐プラズマ部材は、アルミナ基材の表面に、ケミカルエッチング処理を施し、次いでY2O3またはYAGを溶射し耐プラズマ層を形成することによって製造することができる。【図面】 なし
請求項(抜粋):
アルミナ基材上にY2O3またはYAGを溶射した耐プラズマ部材であって、前記アルミナ基材の少なくとも溶射を施す部分の表面粗さRaが5μm以上15μm以下であることを特徴とする耐プラズマ部材。
IPC (2件):
C04B41/87 ,  H01L21/3065
FI (2件):
C04B41/87 J ,  H01L21/302 101G
Fターム (2件):
5F004AA13 ,  5F004BB29
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 耐食性部材
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-201566   出願人:京セラ株式会社
  • 耐プラズマ部材
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-042604   出願人:京セラ株式会社
  • 処理容器用部材
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-371941   出願人:太平洋セメント株式会社, 株式会社日本セラテック

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