特許

J-GLOBAL ID：200903089973351547

パターンを形成する方法

発明者： 谷崎 洋子 ,  扇谷 聡
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-068211
公開番号（公開出願番号）：特開平6-282081
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：

【要約】【構成】 ポリイミド前駆体を含む光架橋性重合体組成物からのパターン形成方法において、現像液で未露光部を除去した後に10容量%以上の下記式〔II〕で示される常温で液体の化合物を含むリンス液で洗浄することを特徴とするパターン形成方法。【効果】 従来問題であった残渣及び表面ダメージのない、しかも極めて高解像度なパターンを提供することが可能となる。

請求項（抜粋）：

下記式〔I〕で示される繰り返し単位を有する光架橋性重合体を含む感光性組成物から露光工程、現像工程を経て所定のパターンを形成する方法において、現像液で未露光部を除去した後に10容量パーセント以上の下記式〔II〕で示される常温で液体の化合物を含むリンス液で洗浄することを特徴とするパターン形成方法。(式中のXは(2+n)価の炭素環式または複素環式、Yは(2+m)価の炭素Rは炭素-炭素二重結合を有する基、Wは熱処理により-CORのカルボニル基と反応して環を形成しうる基、nは1または2、mは0、1または2であり、かつCORとZは互いにオルト位またはペリ位の関係にある。)(R1 、R2 及びR3 はHまたは炭素数1から8までのアルキル基である。)

IPC (3件)：

G03F 7/32 501 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/027