ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-007617
公開番号（公開出願番号）：特開2001-201854
出願日： 2000年01月17日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
要約：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】すなわち本発明は、下記一般式(1)または一般式(2)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物、およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。【化1】(Xはハロゲン原子またはシアノ基を表す。Tはテルペノイド骨格を少なくとも一つ有する有機基を表す。)【化2】(Yは水素原子、メチル基、ハロゲン原子またはシアノ基を表す。Rは炭素数1〜10の炭化水素基、水酸基を表す。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(Xはハロゲン原子またはシアノ基を表す。Tはテルペノイド骨格を少なくとも一つ有する有機基を表す。)

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , C08L 33/06 , G03F 7/004 503

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , C08L 33/06 , G03F 7/004 503

Fターム (19件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF09 , 2H025BG00 , 2H025FA17 , 4J002BG071 , 4J002BG081 , 4J002EB106 , 4J002EN136 , 4J002EQ016 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002GP03

前のページに戻る