特許
J-GLOBAL ID:200903089981306623

光学素子成形用型およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奈良 武
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-302043
公開番号(公開出願番号):特開2003-104737
出願日: 2001年09月28日
公開日(公表日): 2003年04月09日
要約:
【要約】【課題】 酸化による劣化の進行や、膜のクラック、剥離の発生を抑えて、型の寿命を延長できる光学素子成形用型およびその製造方法を提供する。【解決手段】 炭化タングステンを主成分とする超硬合金を光学素子成形型の基材9とし、基材9の少なくとも成形面を含む所定の面に窒素イオンを照射して注入し、基材9における上記所定の面の最表層を、窒素を含む改質層10にする。
請求項(抜粋):
炭化タングステンを主成分とする化合物により形成された成形面を有する光学素子成形用型において、上記成形面の最表層は窒素を含むことを特徴とする光学素子成形用型。
IPC (3件):
C03B 11/00 ,  C23C 8/36 ,  G02B 3/00
FI (3件):
C03B 11/00 N ,  C23C 8/36 ,  G02B 3/00 Z
Fターム (2件):
4K028BA02 ,  4K028BA16

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