基板処理装置および基板処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-118166
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318079
出願日： 2002年04月19日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：

【要約】【課題】特別な検査装置を搭載することなく塗布不良を発見することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 CCDカメラにより、処理液供給ノズルから基板へのフォトレジスト液の吐出状態を監視し、吐出状態に異常が検出されると、その基板を不良基板の回収専用のリジェクトカセットに回収し(ステップU1)、リジェクトカセットに所定量の不良基板が収容されると、リジェクトカセットを基板処理システム外の図示しないリワーク装置へ搬送する(ステップU3)。搬送されたリジェクトカセット内の不良基板には、リワーク装置において順次レジスト剥離液による再生処理が施されていく(ステップU4)。

請求項（抜粋）：

液吐出ノズルから基板に処理液を吐出して該基板に前記処理液を塗布する基板処理装置であって、前記液吐出ノズルから前記基板に向けて吐出された処理液が通過する経路を含む領域を撮影する撮影手段と、前記液吐出ノズルから基板に処理液を吐出するときに、前記撮影手段によって撮影された処理液の吐出状態が不良であるか否かを判定する判定手段と、前記吐出状態が不良である場合に、当該基板を不良基板専用のカセットに搬送する搬送手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/10 , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 501

FI (5件)：

B05C 11/10 , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 565 , H01L 21/30 564 C

Fターム (18件)：

2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025EA04 , 2H096AA25 , 2H096CA13 , 2H096CA14 , 2H096GA30 , 4F042AA07 , 4F042AA08 , 4F042AB00 , 4F042BA22 , 4F042DF09 , 4F042DF32 , 4F042DH09 , 4F042EB09 , 4F042ED05 , 5F046JA01 , 5F046JA22

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