特許
J-GLOBAL ID：200903090003554052
塗布、現像装置及び塗布、現像方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 俊夫
, 水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-036800
公開番号（公開出願番号）：特開2006-222398
出願日： 2005年02月14日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：
【課題】 基板が露光されてから加熱処理が開始されるまでの露光後経過時間を一定にするための塗布、現像装置において、高いスループットを確保しながら、露光後に基板を加熱処理する加熱ユニットの台数を抑えることのできる技術を提供すること。【解決手段】 塗布膜形成用の単位ブロックと現像処理用の単位ブロックとを互いに積層することで、レジスト膜を形成するためのユニット間を搬送する搬送手段と現像処理を行うためのユニット間を搬送する搬送手段とを独立させる。そしてインターフェイスブロック内の搬送手段から露光後の基板を受け渡しステージに受け渡した後、現像処理用の単位ブロック内の搬送手段による当該基板の受け取りのタイミングを、当該基板が露光されてから加熱ユニットに搬入されるまでの時間が予め設定した時間となるように調整する。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロック内のインターフェイス用の搬送手段を介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、
レジスト液を基板に塗布するための液処理ユニット及び塗布液が塗布された基板を加熱する加熱ユニットを含む、一連の処理を順次行うための複数の処理ユニットと、これら処理ユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段とを備えた塗布膜形成用の単位ブロックと、
この塗布膜形成用の単位ブロックに対して積層してまたは横に並んで設けられ、露光された基板を加熱処理するための加熱ユニット及び現像液を基板に塗布するための液処理ユニットを含む、一連の処理を順次行うための複数の処理ユニットと、これら処理ユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段と、を備えた現像処理用の単位ブロックと、
前記インターフェイス用の搬送手段から露光後の基板を現像処理用の単位ブロック内の搬送手段に受け渡すための受け渡しステージと、
この受け渡しステージに露光後の基板が搬送されたときに、現像処理用の単位ブロック内の搬送手段による当該基板の受け取りのタイミングを、当該基板が露光されてから前記加熱ユニットにて加熱開始されるまでの時間が予め設定した時間となるように調整するための制御部と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 562
, H05K3/00 H
5F046JA22
, 5F046KA10
, 5F046LA18
出願人引用 (2件)
審査官引用 (22件)
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