特許

J-GLOBAL ID：200903090008854542

写真用支持体

発明者： 鈴木 文行 ,  奥津 俊光 ,  白倉 幸夫
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-214793
公開番号（公開出願番号）：特開平8-076320
出願日： 1994年09月08日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】ヘイズが低く高透明性でありながら滑り性が改良され、かつ耐熱カール特性に優れたエチレンナフタレートを主たる構成単位とする写真用支持体を提供する。【構成】1.エチレンナフタレートを主たる構成単位とするガラス転移温度が100°C以上のポリエステルを二軸延伸して得られたフィルムであって、該フィルムには平均粒径が0.1〜1.0μmの破砕型シリカを含有してなり、さらに当該フィルムをポリエステルのガラス転移温度以下であり、かつガラス転移温度より20°C以上低くない温度で1〜180時間アニールすることを特徴とする写真用支持体。2.ポリエステルフィルム中の破砕型シリカは粒径が0.01〜5μm、かつ1μm以上の粒子の割合が全粒子の20%以下である項1に記載の写真用支持体。

請求項（抜粋）：

ナフタレンジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体を主とする二官能性カルボン酸成分と、エチレングリコールを主とするグリコール成分とを主たる原料とするガラス転移温度が100°C以上のポリエステルを二軸延伸して得られたフィルムであって、該フィルムには平均粒径が0.1〜1.0μmの破砕型シリカを含有してなり、さらに当該フィルムをポリエステルのガラス転移温度以下であり、かつガラス転移温度より20°C以上低くない温度で1〜180時間保持しアニールすることを特徴とする写真用支持体

IPC (11件)：

G03C 1/795 ,  B29C 55/12 ,  C08J 5/18 CFD ,  C08J 7/00 CFD ,  C08J 7/00 301 ,  C08K 9/00 ,  C08L 67/02 KKG ,  G03C 1/81 ,  G03C 1/95 ,  B29K 67:00 ,  B29K105:16