滅菌及びドライ洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：三好秀和 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-359858
公開番号（公開出願番号）：特開2003-159570
出願日： 2001年11月26日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：

【要約】【課題】汚れが除去され、滅菌された被処理物が短時間で得られるようにする。【解決手段】被処理物3が収容された処理室5内で、プラズマ発生装置7によって酸素を含む混合気体を放電励起してプラズマを発生させ、そのプラズマによって水噴射装置9からのガス状の水分子を分解する時に、紫外線照射装置11による紫外線を同時に浴びせることで、汚れと滅菌に対して迅速に作用するヒドロキシラジカル、パーオキシド、酸素原子等を多量に発生させる。

請求項（抜粋）：

被処理物が収容される処理室と、その処理室内に酸素、あるいは、酸素を含む混合気体を放電励起し、プラズマを発生させるプラズマ発生装置と、プラズマが発生する前記処理室内へ、ガス状の水分子を噴射する水噴射装置と、紫外線を照射する紫外線照射装置とを備えていることを特徴とする滅菌及びドライ洗浄装置。

IPC (6件)：

B08B 7/00 , A61L 2/10 , A61L 2/14 , B01J 19/08 , B01J 19/12 , H01L 21/3065

FI (6件)：

B08B 7/00 , A61L 2/10 , A61L 2/14 , B01J 19/08 E , B01J 19/12 C , H01L 21/302 N

Fターム (34件)：

3B116AA01 , 3B116AA21 , 3B116AB01 , 3B116BB11 , 3B116BB89 , 3B116BC01 , 3B116CD11 , 4C058AA06 , 4C058BB06 , 4C058CC04 , 4C058CC06 , 4C058CC07 , 4C058KK02 , 4C058KK06 , 4C058KK21 , 4C058KK50 , 4G075AA07 , 4G075AA30 , 4G075CA33 , 4G075CA51 , 4G075CA62 , 4G075CA63 , 4G075DA01 , 4G075EB42 , 4G075EC21 , 4G075FC15 , 5F004AA14 , 5F004BA03 , 5F004BB05 , 5F004BB11 , 5F004DA00 , 5F004DA22 , 5F004DA23 , 5F004DA26

引用特許：

出願人引用 (5件)

クリーニング方法及び半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-173529 出願人：富士通株式会社
特開昭59-011629
プラズマアドレス電気光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-258700 出願人：ソニー株式会社

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