特許
J-GLOBAL ID:200903090026800247

水素分離膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-244643
公開番号(公開出願番号):特開平6-091144
出願日: 1992年09月14日
公開日(公表日): 1994年04月05日
要約:
【要約】【目的】 欠陥がなく水素透過性能に優れる水素分離膜を簡易に製造できる方法を提供する。【構成】 金属多孔体を基材とし、この基材表面にセラミックスを溶射した後、減圧プラズマ溶射法によりパラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成し、その後ブラスト処理し、さらに、高温加熱処理する。
請求項(抜粋):
金属多孔体を基材とし、この基材表面にセラミックスを溶射した後、減圧プラズマ溶射法によりパラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成し、さらに該パラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜表面をブラスト処理し、次いで高温加熱処理することを特徴とする水素分離膜の製造方法。
IPC (3件):
B01D 71/02 500 ,  C01B 3/56 ,  B01D 67/00

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