極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長澤俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-179288
公開番号（公開出願番号）：特開2008-053696
出願日： 2007年07月09日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：

【課題】エネルギービームを照射して原料を気化し、電極放電により高温プラズマを生成するEUV光源装置において、エネルギービームが電極に照射されることにより発生する電極のアブレーションを抑制すること。【解決手段】プラズマ原料2aが原料供給手段2によって、放電領域(放電電極1a,1b間)の近傍(放電領域を除く空間であって、レーザビーム5により気化された原料が放電領域に到達できる空間)に滴下され、レーザビーム5が高温プラズマ原料2aに対して照射される。レーザビーム5の照射により気化した高温プラズマ原料2bは放電領域の方向に広がる。この時点で一対の放電電極1a,1bに電力が印加されると、気化した高温プラズマ原料2bは加熱・励起されて高温プラズマ4となり、EUV光を放射する。当該EUV光放射は、EUV集光鏡3により集光され不図示の露光装置に送られる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

容器と、この容器内に極端紫外光を放射させるための、液体または固体の原料を供給する原料供給手段と、エネルギービームを上記原料に照射して当該原料を気化するエネルギービーム照射手段と、気化された上記原料を放電により上記容器内で加熱励起し高温プラズマを発生させるための、所定距離だけ離間した一対の放電電極と、放電電極にパルス電力を供給するパルス電力供給手段と、上記一対の放電電極による放電の放電領域内で生成された上記高温プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光光学手段と、上記集光される極端紫外光を取り出す極端紫外光取出部とを有する極端紫外光光源装置において、上記エネルギービーム照射手段は、上記放電領域を除く空間であって、上記気化された原料が放電領域に到達できる空間内に供給された原料に対して、エネルギービームを照射することを特徴とする極端紫外光光源装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G21K 1/00 , H05G 2/00 , H05H 1/24

FI (4件)：

H01L21/30 531S , G21K1/00 X , H05G1/00 K , H05H1/24

Fターム (4件)：

4C092AA06 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (2件)

国際公開第2005/025280 A2号パンフレット
伸張可能な薄膜を備える汚染バリヤ
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-426987 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

審査官引用 (4件)

極紫外線光源
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-584754 出願人：サイマーインコーポレイテッド
EUV光源、EUV露光装置、及び半導体デバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-186132 出願人：株式会社ニコン
プラズマ発生装置およびスペクトル制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-312739 出願人：国立大学法人熊本大学

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