特許

J-GLOBAL ID：200903090058363469

プラズマ処理装置

発明者： 渡辺 成一 ,  古瀬 宗雄 ,  白米 茂
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-046820
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263191
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【構成】プラズマ処理装置において、多極磁場と高周波電圧を印加できるコイル3を、処理室1外周部あるいは放電室外周部に設けるよう構成した。【効果】壁面でのプラズマ損失が低減するため、より高密度のプラズマが生成でき、また、より低圧力領域でも容易にプラズマを生成することが可能であるという効果がある。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、多極磁場と高周波電圧を印加できるコイルを、処理室外周部あるいは放電室外周部に設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/31 C