特許
J-GLOBAL ID：200903090062784177
難加工性Co合金の低透磁率化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-266605
公開番号（公開出願番号）：特開平7-118818
出願日： 1993年10月25日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：
【要約】【目的】 従来技術における様な問題を発生させることなく、難加工性のCo合金に対して多数の加工歪の導入を可能にして低透磁率化を達成することのできる方法を提供する。【構成】 Ni:0.1〜40原子%および/またはPt:0.1〜40原子%を夫々含有する他、Ta,Mo,W,V,Nb,Hf,Zr,TiおよびBよりなる群から選ばれる1種以上の元素:0.5〜10原子%を含有し(但し、Bの上限は5原子%)、残部50原子%以上のCoおよび不可避不純物からなるCo合金を溶解法によって溶製し、該Co合金を用いて厚さ30mm以下の薄板鋳片を作成すると共に、該鋳片の表面に金属カプセルを被覆するかまたはガラス潤滑剤を塗布し、再加熱を介して2段の圧下を行ない、且つ全圧下率が30%以上となる様に熱間圧延を施す。
請求項（抜粋）：
Ni:0.1〜40原子%および/またはPt:0.1〜40原子%を夫々含有する他、Ta,Mo,W,V,Nb,Hf,Zr,TiおよびBよりなる群から選ばれる1種以上の元素:0.5〜10原子%を含有し(但し、Bの上限は5原子%)、残部50原子%以上のCoおよび不可避不純物からなるCo合金を溶解法によって溶製し、該Co合金を用いて厚さ30mm以下の薄板鋳片を作成すると共に、該鋳片の表面に金属カプセルを被覆するかまたはガラス潤滑剤を塗布し、再加熱を介して2段の圧下を行ない、且つ全圧下率が30%以上となる様に熱間圧延を施すことを特徴とする難加工性Co合金の低透磁率化方法。
IPC (4件)：
C22F 1/10
, B21B 3/02
, C22C 19/07
, C23C 14/34
