特許
J-GLOBAL ID：200903090063986555
塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-169516
公開番号（公開出願番号）：特開2005-000869
出願日： 2003年06月13日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
【目的】塗布と塗布の間の時間におけるノズル先端の乾燥防止をコンパクトな乾燥室で行い、連続的な均一塗布を可能とする塗布装置を提供すること。【構成】ワークを保持する塗布ステージに対して塗布液を吐出するノズルを相対的に移動させ、前記塗布ステージに固定されたワークに前記塗布液を供給し、描画パターン若しくは液膜を形成する塗布装置において、塗布後次の塗布までのノズル待機位置において、ノズル先端の乾燥防止のため、ノズルを挿入しノズル先端を密閉可能且つ塗布液の主溶媒を充填可能で、前記主溶媒に超音波を加振し、霧化してノズル先端にミスト状の前記主溶媒を付着させて乾燥を防止する乾燥防止室を具備する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ワークを保持する塗布ステージに対して塗布液を吐出するノズルを相対的に移動させ、前記塗布ステージに固定されたワークに前記塗布液を供給し、描画パターン若しくは液膜を形成する塗布装置において、
塗布後次の塗布までのノズル待機位置において、ノズル先端の乾燥防止のため、ノズルを挿入しノズル先端を密閉可能且つ塗布液の主溶媒を充填可能で、前記主溶媒に超音波を加振し、霧化してノズル先端にミスト状の前記主溶媒を付着させて乾燥を防止する乾燥防止室を具備することを特徴とする塗布装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA51
, 4F041CA21
, 4F042AA06
, 4F042DH10
