特許
J-GLOBAL ID:200903090070082246

ロール式セミソリッド加工法およびその加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-067605
公開番号(公開出願番号):特開2000-263213
出願日: 1999年03月12日
公開日(公表日): 2000年09月26日
要約:
【要約】【課題】 高品質の鋳造製品を安価に製造できるロール式セミソリッド加工法を提供する。【解決手段】 液相線温度より僅かに高い所定温度に保持した合金溶湯Aを急冷して初晶を生成させる工程、前記初晶が生成した合金溶湯Bを徐冷して前記初晶を粒状晶に成長させる工程、前記粒状晶が成長して所定の固相比率になった合金溶湯Cを金型圧入用スラグとして所定量押出す工程からなる。【効果】 均一微細な粒状晶組織からなり、空気巻込みや凝固収縮巣などのない、強度、伸び、疲労特性などに優れる鋳造製品がセミソリッドビレットを用いずに安価に製造できる。
請求項(抜粋):
液相線温度より僅かに高い所定温度に保持した合金溶湯Aを急冷して初晶を生成させる工程、前記初晶が生成した合金溶湯Bを徐冷して前記初晶を粒状晶に成長させる工程、前記粒状晶が成長して所定の固相比率になった合金溶湯Cを金型圧入用セミソリッドとして所定量押出す工程からなることを特徴とするロール式セミソリッド加工法。
IPC (5件):
B22D 17/30 ,  B22D 11/00 ,  B22D 11/06 360 ,  B22D 17/00 ,  B22D 37/00
FI (5件):
B22D 17/30 Z ,  B22D 11/00 R ,  B22D 11/06 360 C ,  B22D 17/00 Z ,  B22D 37/00 Z
Fターム (2件):
4E004DB03 ,  4E004TA02

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