特許

J-GLOBAL ID：200903090074896620

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： 越川 誉生
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 久保 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-002731
公開番号（公開出願番号）：特開平5-189720
出願日： 1992年01月10日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】本発明は磁気抵抗効果素子からなる再生ヘッド部と誘導型の記録ヘッド部とを一体化した複合型の薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関し、記録・再生特性を良好とし且つ生産性を高めることを目的とする。【構成】磁気抵抗効果素子14及びこれを挟む一対の磁気シールド層12,17からなる再生ヘッド部RHと、一方の磁気シールド層17を磁気コアMCの一部とする誘導型の記録ヘッド部WHとを有した薄膜磁気ヘッド1であって、磁気シールド層17が、記録ヘッドWH側の表層部の特定部分172の磁気特性を不純物の添加によって部分的に劣化させた軟質磁性層からなり、特定部分172が、磁気シールド層17とともに磁気コアMCを構成する磁極20との対向部を除く部分に対応するように構成される。

請求項（抜粋）：

磁気抵抗効果素子(14)及びこれを挟む一対の磁気シールド層(12)(17)からなる再生ヘッド部(RH)と、前記一方の磁気シールド層(17)を磁気コア(MC)の一部とする記録ヘッド部(WH)とを有した薄膜磁気ヘッド(1)であって、前記磁気シールド層(17)が、前記記録ヘッド(WH)側の表層部の特定部分(172)の磁気特性を不純物の添加によって部分的に劣化させた軟質磁性層からなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (2件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39