特許
J-GLOBAL ID:200903090076842013

地盤注入工法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 染谷 仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-342306
公開番号(公開出願番号):特開平7-166532
出願日: 1993年12月15日
公開日(公表日): 1995年06月27日
要約:
【要約】【目的】 地盤中に、一次注入材として懸濁型注入材を注入し、次いで二次注入材としてコロイダルシリカ系注入材を注入する地盤注入工法の改良工法であって、特に、止水性、固結性および耐久性に優れた地盤注入工法を得る。【構成】 地盤中に、一次注入材としてセメント系懸濁型注入材を注入後、二次注入材として水ガラスをイオン交換樹脂と接触させて水ガラスのNaイオンを除去して得られるコロイダルシリカ系注入材を注入する地盤注入工法において、前記セメント系懸濁型注入材および/またはコロイダルシリカ系注入材に金属イオン封鎖剤および/またはオルトリン酸系薬剤を含有せしめることを特徴とする。
請求項(抜粋):
地盤中に一次注入材としてセメント系懸濁型注入材を注入後、二次注入材として水ガラスをイオン交換樹脂と接触させて水ガラスのNaイオンを除去して得られるコロイダルシリカ系注入材を注入する地盤注入工法において、前記セメント系懸濁型注入材および/またはコロイダルシリカ系注入材に金属イオン封鎖剤および/またはオルトリン酸系薬剤を含有せしめることを特徴とする地盤注入工法。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭57-164186
  • 特開昭59-152984

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