特許

J-GLOBAL ID：200903090085943698

基板処理装置

発明者： 井上 秀和 ,  大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-111965
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283593
出願日： 1996年04月08日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】 基板搬送ユニットと処理ユニットとを合理的に配置し、全体としてコンパクトに構成しながら、基板搬送装置に対するメンテナンス作業を容易に行えるようにする。【解決手段】 薬液処理ユニット4と、加熱プレート16bや冷却プレート17cなどを並設した熱処理ユニット2とを並置し、熱処理ユニット2に隣接して、熱処理ユニット2における加熱プレート16bや冷却プレート17cの並設方向に移動するように第1、第2の基板搬送装置20bを設けた基板搬送ユニット7を設置し、基板搬送ユニット7に近い側の熱処理ユニット2の下方に、薬液処理ユニット4側に第1、第2の基板搬送装置20bが移動する基板搬送空間Sを設ける。

請求項（抜粋）：

第1の処理ユニットと、第2の処理ユニットとを並置し、前記第1および第2の処理ユニットの一方に隣接して、基板搬送装置を設けた基板搬送ユニットを設置し、前記基板搬送ユニットに近い側の処理ユニットの下方に、前記基板搬送ユニットより遠い側の処理ユニットに前記基板搬送装置が移動する基板搬送空間を設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/30 502 J