特許

J-GLOBAL ID：200903090096788295

洗浄剤組成物及び洗浄方法

発明者： 小布施 洋
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-059803
公開番号（公開出願番号）：特開平8-231989
出願日： 1995年02月23日
公開日（公表日）： 1996年09月10日
要約：

【要約】【構成】炭化水素系溶媒と金属イオンを配位し得る有機化合物を含有することを特徴とする洗浄剤組成物、及び、被洗浄物を該洗浄剤組成物と接触させたのち、溶媒と接触させることを特徴とする洗浄方法。【効果】本発明の洗浄剤組成物及び洗浄方法によれば、オゾン層破壊の原因となる有機ハロゲン系溶媒を使用することなく、プリント基板上のフラックス残渣を溶解し、効果的に除去することができる。

請求項（抜粋）：

炭化水素系溶媒と金属イオンに配位し得る有機化合物を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (6件)：

C11D 7/24 ZAB ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/36 ,  C23G 5/02 ,  H01L 21/304 341

FI (6件)：

C11D 7/24 ZAB ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/36 ,  C23G 5/02 ,  H01L 21/304 341 L