特許

J-GLOBAL ID：200903090098038641

4,4’-ビスフェノールスルホンの製造方法

発明者： 肥高 友也
出願人/特許権者： 日本曹達株式会社 ,  日曹金属化学株式会社
代理人 (2件)： 滝田 清暉 (外1名) ,  滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-273083
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088055
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】 この発明は、脂肪族飽和炭化水素溶媒中でフェノールと硫酸とを還流下で反応させる4,4’-BPSの製造方法において、反応工程及びその後の工程において4,4’-BPSの高収率をもたらすような適切な混合溶媒を用いることにより、効率よく副生する水を除去し、かつ4,4’-BPSの収率を向上させることができる製法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、フェノール及び硫酸を、沸点が175°C以上である脂肪族飽和炭化水素及びフェノールを溶解し沸点が170°C以下の溶媒から成る混合溶媒中で、水を除きながら還流下で反応させ、該フェノールを溶解し沸点が170°C以下の溶媒を反応系から留去する4,4’-ビスフェノールスルホンの製造方法である。前記反応終了後にフェノールを溶解し沸点が170°C以下の溶媒を反応系から留去することが好ましい。またこの前記脂肪族飽和炭化水素としてはアイソパー(エクソン化学(株)の登録商標)Hが好ましい。

請求項（抜粋）：

フェノール及び硫酸を、沸点が175°C以上である脂肪族飽和炭化水素及びフェノールを溶解し沸点が170°C以下の溶媒から成る混合溶媒中で、水を除きながら還流下で反応させ、該フェノールを溶解し沸点が170°C以下の溶媒を反応系から留去する4,4’-ビスフェノールスルホンの製造方法。

IPC (2件)：

C07C317/22 ,  C07C315/00

FI (2件)：

C07C317/22 ,  C07C315/00

Fターム (8件)：

4H006AA02 ,  4H006AC62 ,  4H006BB11 ,  4H006BC10 ,  4H006BE03 ,  4H006TA02 ,  4H006TB13 ,  4H006TB42

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-009970
  
• 特表平5-500522
  
• 特開平1-190662
  
• 特開昭61-024559