特許

J-GLOBAL ID：200903090106856685

浴水浄化循環装置

発明者： 岡島 るみ ,  江頭 信正 ,  福田 正彦 ,  藤崎 克己 ,  守川 彰 ,  永井 由紀
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-034963
公開番号（公開出願番号）：特開平11-226567
出願日： 1998年02月17日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 光触媒の表面に付着してしまう浴水中の無機物・有機物の汚れを容易に剥離除去し、光触媒反応による殺菌や有機物分解の効果維持し、循環される浴水を長時間入れ替えしなくても入浴ができる浴水浄化循環装置を提供すること。【解決手段】 紫外線光源10の光を照射すると、酸化還元反応を起こして浴水の殺菌・有機物分解を行なう光触媒14にヒータ部15を配設し、光触媒14の表面に付着した無機物や有機物などを熱によりくずれやすくして、剥離除去を行なう。

請求項（抜粋）：

浴槽内の浴水を循環ポンプにて循環させる循環水路内に、浴水内に存在する菌類の殺菌処理を行なう殺菌装置と、浴水内に存在する微生物を着床させ湯垢などの各種有機物の除去処理を行なう浄化装置と、浴水の加熱を行なう加熱手段とを備えた浴水浄化循環装置において、前記殺菌装置は、前記浴水に接触するように設けられた光触媒と、前記光触媒を照射するように設けられた光源と、前記光触媒を加熱するヒータ部とからなることを特徴とする浴水浄化循環装置。

IPC (6件)：

C02F 1/32 ,  A47K 3/00 ,  B01D 35/027 ,  B01J 35/02 ,  C02F 3/06 ZAB ,  F24H 1/00 302

FI (7件)：

C02F 1/32 ,  A47K 3/00 K ,  A47K 3/00 M ,  B01J 35/02 J ,  C02F 3/06 ZAB ,  B01D 35/02 J ,  F24H 1/00 602 L