特許

J-GLOBAL ID：200903090109378849

アクテイブマトリクス基板

発明者： 船井 尚 ,  谷口 幸治 ,  後藤 政仁
出願人/特許権者： シヤープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-305039
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142569
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：

【要約】【目的】 ゲート電極配線及びソース電極配線の各配線間の短絡及び絶縁を確実に、しかも容易に行うことができるようにする。【構成】 各電極配線1を短絡させるべく形成したくし型のショートリング3がくし歯3aにおいてコンタクトホール25を介して各電極配線1と接続されている。ショートリング3の上の絶縁膜24は、くし歯3a部分を露出させて形成されており、その露出部分を液晶表示装置作製後に陽極酸化すると露出部分は消失する。このとき、露出部分はショートリング3の各電極歯との接続部を含むので、ショートリング3と各電極配線1とが絶縁される。

請求項（抜粋）：

基板上に複数のゲート電極配線と複数のソース電極配線とが相互に交差する状態で配設され、かつ各配線の端部の外側に、該端部と接続される端子が形成されたアクティブマトリクス基板において、該ゲート電極配線及びソース電極配線の各配線の端部の上側を通り、かつ、各配線との間の部分に絶縁膜を介装してショートリングが形成されていると共に、該絶縁膜の各配線の端部と対向する部分に設けたコンタクトホールを介して各配線と該ショートリングが電気的に接続され、該ショートリングの各配線との接続部分を少なくとも含む部分を露出させた状態でショートリングが別の絶縁膜にて覆われていて、ショートリングの露出部分が陽極酸化により消失される被陽極酸化部分となっているアクティブマトリクス基板。

IPC (6件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/133 550 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1345 ,  H01L 27/12 ,  H01L 29/784