特許

J-GLOBAL ID：200903090140729218

耐食性及び膜厚均一性を改善したR-TM-B系永久磁石

発明者： 多賀谷 敦 ,  清水 元治
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239461
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082320
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【目的】 希土類と鉄を主体とした磁石において、従来のめっきでは不十分であった耐食性及び膜厚均一性の顕著な向上を図ること。【構成】 重量比でR(ここでRはYを含む希土類元素の1種又は2種以上組合わせ)5〜40%,TM(ここでTMはFeを主体とする遷移金属)50〜90%,B(硼素)0.2〜8%から実質的になるR-TM-B系永久磁石の表面に電解Cuめっき層および電解Niめっき層からなる二重層を有する耐食性及び膜厚均一性を改善したR-TM-B系永久磁石等である。

請求項（抜粋）：

重量比でR(ここでRはYを含む希土類元素の1種又は2種以上組合わせ)5〜40%,TM(ここでTMはFeを主体とする遷移金属)50〜90%,B(硼素)0.2〜8%から実質的になるR-TM-B系永久磁石の表面に電解Cuめっき層および電解Niめっき層からなる二重層を有する耐食性及び膜厚均一性を改善したR-TM-B系永久磁石。

IPC (2件)：

H01F 1/08 ,  H01F 1/053

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-054406
  
• 特開昭59-219492