特許
J-GLOBAL ID：200903090142123309

レジストインキ組成物

発明者：
渡辺 岳男

渡辺 岳男 について

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佐藤 孝志

佐藤 孝志 について

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田越 宏孝

田越 宏孝 について


出願人/特許権者：
昭和電工株式会社

昭和電工株式会社 について


代理人 (1件)： 柿沼 伸司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-219997
公開番号（公開出願番号）：特開2002-040632
出願日： 2000年07月21日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：
【要約】【課題】解像度、密着性、耐ハンダ性、プレッシャークッカー耐性等の諸特性に優れたプリント基板等に用いられるソルダーレジストまたは層間絶縁材料が得られるレジストインキ組成物を提供すること。【解決手段】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する化合物(a)、活性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)を含むレジストインキ組成物が光感度が高く、最終硬化も短時間加熱で済み、且つ、得られた硬化皮膜も良好な物性を有することを見いだした。
請求項（抜粋）：
同一分子内に少なくとも一個のオキセタニル基と少なくとも一個のエポキシ基とを有する化合物(a)を含むことを特徴とするレジストインキ組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  C09D 4/06 ,  C09D 11/00 ,  C09D171/00 ,  C09D201/00
FI (6件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 Z ,  C09D 4/06 ,  C09D 11/00 ,  C09D171/00 ,  C09D201/00
Fターム (63件)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC31 ,  2H025BC51 ,  2H025BD03 ,  2H025BD04 ,  2H025BE07 ,  2H025CA01 ,  2H025CA35 ,  2H025CB52 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J038CG142 ,  4J038DA062 ,  4J038DA082 ,  4J038DB072 ,  4J038DB222 ,  4J038DB342 ,  4J038DB462 ,  4J038DB472 ,  4J038DF021 ,  4J038FA112 ,  4J038GA03 ,  4J038GA07 ,  4J038JA13 ,  4J038JA16 ,  4J038JA33 ,  4J038JA69 ,  4J038JA70 ,  4J038JB01 ,  4J038JB11 ,  4J038JC17 ,  4J038JC38 ,  4J038KA03 ,  4J038KA04 ,  4J038NA04 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038NA14 ,  4J038NA21 ,  4J038PA17 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  4J039AD21 ,  4J039AE05 ,  4J039AE07 ,  4J039BC05 ,  4J039BC16 ,  4J039BC30 ,  4J039BC31 ,  4J039BC33 ,  4J039BC41 ,  4J039BC54 ,  4J039BC79 ,  4J039EA06 ,  4J039EA38 ,  4J039EA43 ,  4J039GA17
引用特許：
審査官引用 (5件)
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